本文標(biāo)題："保證膠膜厚薄為什么要對(duì)粘度和使用規(guī)程實(shí)行嚴(yán)格控制"

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保證膠膜厚薄為什么要對(duì)粘度和使用規(guī)程實(shí)行嚴(yán)格控制

    光刻要使已進(jìn)行摻雜的硅區(qū)域暴露出來(lái)可以采用“光刻”方
法在硅氧化物上刻蝕圖形。為此，先把對(duì)特定的紫外光帶敏感的
乳膠均勻轉(zhuǎn)壓在硅片上，然后通過(guò)刻有所需圖形的精密掩模進(jìn)行
曝光。這道工序通常在專(zhuān)門(mén)的潔凈室里進(jìn)行，室內(nèi)采用不影響乳
膠性質(zhì)的黃色照明。每個(gè)掩模在一個(gè)X-Y陳列里刻有好幾百個(gè)
相同的圖形，每個(gè)圖形形成一個(gè)電路。要去除曝光區(qū)的長(zhǎng)化物可
利用稀作的氛氟酸進(jìn)行腐蝕，這種酸能夠溶解氧化硅，但不能腐蝕
受到乳膠保護(hù)的部分。
    硅片上的乳膠必須均勻一致，厚度一定。乳膠膜薄對(duì)制造很
小的圖形是有利的，但是，膜太薄可能出現(xiàn)針孔，使氧化物產(chǎn)生不
應(yīng)有的小孔。膠膜厚度還決定了需要曝光的時(shí)間，厚度變化過(guò)大
會(huì)引起一部分硅片曝光不當(dāng)。要保證膠膜厚薄一致，必須對(duì)其粘
度和使用規(guī)程實(shí)行嚴(yán)格控制，而且使用前乳膠必須經(jīng)過(guò)過(guò)濾，除去
其中的固體粒子。
 

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