本文標題："關于近場光學顯微鏡在微電子技術方面的運用"
發(fā)布者：YIYI ------ 分類: 技術文章 ------ 人瀏覽過 -----時間：2014-4-18 10:42:41
關于近場光學顯微鏡在微電子技術方面的運用
信息的高密度存儲是信心技術的主要部分，因為近場光學顯微鏡對環(huán)境的條件需
求比較低，則擁有良好的光盤技術的底子，所以它已經(jīng)成為了不同種類近場高密
度信息存儲技術的比較強大，有潛力的競爭者。目前，提升信息存儲密度是研發(fā)
與工業(yè)界更為重視的一大核心，光學和磁光讀寫方式使用的是遠揚技術，因為受
衍射大限度的控制，斑的讀寫尺寸被控制在1毫米左右，存儲密度約大概在55
55 Mbit/cm2左右，利用較短的激光波會對存儲密度的提高不大，則近場光學的
發(fā)展提供了一種新的原理，因為掃描近場光學顯微可以突破衍射大限度的控制
然而大大的增大了存儲的密度，利用近場技術，可將斑的尺寸讀寫為20納米，儲
存密度可以提高到125 Gbit/cm2。
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